痕量級(jí)AMC空氣分子污染物Ma Mb（NH3、HCL、HF等）監(jiān)測(cè)-半導(dǎo)體行業(yè)應(yīng)用

光刻工藝潔凈室內(nèi)痕量級(jí)NH3、HCL、HF等氣體的超高靈敏度、實(shí)時(shí)測(cè)量實(shí)踐證明深紫外光刻工藝深受多種類微量污染物的影響，對(duì)很多微量污染物極為敏感，比如氨氣或者酸性氣體都會(huì)給半導(dǎo)體生產(chǎn)帶來極大的危害，盡管隨著深紫外耐腐蝕材料技術(shù)的發(fā)展，已經(jīng)減少了長(zhǎng)時(shí)間持續(xù)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)，而實(shí)際上空氣分子污染（AMC）的實(shí)時(shí)測(cè)量對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量的好壞至關(guān)重要。

獵戶座3100S系列空氣分子污染物監(jiān)測(cè)系統(tǒng)基于CEAS（腔增強(qiáng)吸收光譜）技術(shù)連續(xù)分析儀器，將增加半導(dǎo)體器件阻抗一致性、保證更長(zhǎng)的過濾器壽命、減少生產(chǎn)過程的停工時(shí)間。

EDK 研發(fā)的軟件可以實(shí)時(shí)觀察、實(shí)時(shí)測(cè)量、實(shí)時(shí)操作對(duì)不同空間不同位置的NH3、HCL、HF進(jìn)行分析，軟件專門針對(duì)半導(dǎo)體行業(yè)開發(fā)，對(duì)于深紫外光刻工藝過程中監(jiān)測(cè)與控制空氣分子污染（AMC）提供有力的支持，軟件集成了多點(diǎn)采樣（MS）控制功能，具有實(shí)時(shí)顯示數(shù)據(jù)曲線、報(bào)警、存儲(chǔ)、趨勢(shì)、歷史曲線、分析等功能。

獵戶座3100系統(tǒng)：完善的空氣分子污染物（AMC）監(jiān)測(cè)

實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)空氣分子污染（AMC）對(duì)于半導(dǎo)體生產(chǎn)過程極為重要。

快速監(jiān)測(cè)、報(bào)警、極低濃度測(cè)量、寬測(cè)量區(qū)域、多氣體的高靈敏響應(yīng)等是半導(dǎo)體工業(yè)要求之一。深紫外光刻工藝特別關(guān)注氨、胺類、N-甲基毗咯烷酮NMP、酸類等濃度測(cè)量，當(dāng)這些氣體與化學(xué)放大光刻膠反生反應(yīng)時(shí)，將深深的影響半導(dǎo)體器件質(zhì)量。

特點(diǎn)優(yōu)勢(shì)：

DUKE采用被證明的CEAS（腔增強(qiáng)吸收光譜）技術(shù)解決AMC（空氣分子污染物）監(jiān)測(cè)難題，可快速測(cè)量痕量級(jí)NH3、HCL、HF，采用脈沖熒光法測(cè)量SO2，采用增強(qiáng)型GC-FID測(cè)量VOCs。
獵戶座 3100S 系列空氣分子污染物監(jiān)測(cè)系統(tǒng)測(cè)量痕量級(jí)NH3、HCL、HF 并集成了uVOC-CAM特性，是半導(dǎo)體行業(yè)潔凈室AMC（空氣分子污染）測(cè)量的有力工具。
獵戶座 3100S也集成了多點(diǎn)監(jiān)測(cè)系統(tǒng)，可依序?qū)怏w抽送到分析儀或傳感器，并讀出測(cè)量結(jié)果。獵戶座3100S內(nèi)嵌的報(bào)警、報(bào)告、分析軟件是由多年半導(dǎo)體行業(yè)經(jīng)驗(yàn)的工程師集體開發(fā)。
獵戶座3100S使用Ethernet、RS485／RS232或4-20mA模擬模塊可以輸出來自4～6臺(tái)分析儀或傳感器的數(shù)據(jù)。
每臺(tái)分析儀配有內(nèi)置計(jì)算機(jī)（Linux OS），可進(jìn)行數(shù)據(jù)存儲(chǔ)和數(shù)據(jù)輸出，還支持遠(yuǎn)程網(wǎng)絡(luò)控制，通過互聯(lián)網(wǎng)可以連接DUKE公司總部或者當(dāng)?shù)亟?jīng)銷商服務(wù)商，進(jìn)行操作或者診斷。
使用者可以通過網(wǎng)絡(luò)瀏覽器比如 IE、Chrome 等世界任意可以聯(lián)網(wǎng)的地方進(jìn)行操作，遠(yuǎn)程操作可實(shí)現(xiàn)多級(jí)管理權(quán)限控制和操作。
獵戶座3100S 系統(tǒng)配置

獵戶座3100S 的特性：

sub-ppb 級(jí)實(shí)時(shí)測(cè)量

CEAS (腔增強(qiáng)吸收光譜) 原理

苛刻危險(xiǎn)環(huán)境下可連續(xù)無人值守測(cè)量

無試劑、無放射源、無紙帶消耗、無吸收管或者其他耗材

長(zhǎng)期穩(wěn)定性和可靠性

固態(tài)電子器件無可移動(dòng)部件
低維護(hù)量、長(zhǎng)免維護(hù)期

出廠標(biāo)定

單組份/多組份痕量級(jí)氣體測(cè)量

4~64通道多點(diǎn)采樣
獨(dú)立可編程報(bào)警、繼電器設(shè)置
可獨(dú)立編程采樣點(diǎn)順序和吹掃通道
開放的通訊協(xié)議,便于二次開發(fā)與集成
電源斷電或者斷聞，數(shù)據(jù)無丟失
觸摸屏允許數(shù)據(jù)顯示、表格顯示、曲線顯示等

%”外徑接口
管線:PFA,PVDF
距離采樣點(diǎn)最長(zhǎng)管線:80m
盤裝彩色液晶顯示器
可遠(yuǎn)程操作或可視化操作
任意的運(yùn)載工具
輸出信號(hào):標(biāo)配:RS232可選:4-20 mA,Modbus
供電: 115-230 Vac 50/60 Hz
校準(zhǔn)報(bào)告
通過采樣器或者快速回路泵采樣

技術(shù)參數(shù)：

增強(qiáng)靈敏度：
儀器基于CEAS(腔增強(qiáng)吸收光譜)技術(shù)，極簡(jiǎn)使用、便捷操作，所有部件(包括內(nèi)置真空

泵、鍵盤、鼠標(biāo)、顯示器等)幾分鐘內(nèi)可開始記錄數(shù)據(jù)，其他大氣中的水汽、CO2、O2、甲烷

等不會(huì)對(duì)HCL、HF、NH?等測(cè)量構(gòu)成交叉干擾。內(nèi)置計(jì)算機(jī)可以存儲(chǔ)大量數(shù)據(jù)到內(nèi)置硬盤上，

可同過數(shù)字接口或者模擬接口傳輸數(shù)據(jù)，可通過互聯(lián)網(wǎng)遠(yuǎn)程存儲(chǔ)或記錄數(shù)據(jù)，高質(zhì)量的數(shù)據(jù)庫(kù)，

適合于苛刻的半導(dǎo)體痕量級(jí)氣體應(yīng)用。

檢測(cè)限/精度(1-σ):：

HCL        0.1ppb

HF          0.1ppb

NH?       <0.1ppb

快速響應(yīng)時(shí)間：每個(gè)通道5秒

系統(tǒng)即插即用：系統(tǒng)可在潔凈間幾分鐘內(nèi)簡(jiǎn)單操作完成

低成本：因CEAS (腔增強(qiáng)吸收光譜)系統(tǒng)不需要特別的維護(hù)保養(yǎng)和備品備件，所以很好的降低了

使用者成本。

CEAS (腔增強(qiáng)吸收光譜)---原理

基于CEAS(腔增強(qiáng)吸收光譜)技術(shù)的儀器原理圖，使用近紅外波段光進(jìn)行高靈敏度吸收測(cè)

量，測(cè)量腔室由一組高反射率多次反射鏡片組成的柱狀體構(gòu)成，激光束經(jīng)過固態(tài)校準(zhǔn)器

(FSR=2.00GHz)時(shí)會(huì)測(cè)量得到相對(duì)激光波長(zhǎng)。為了保證清晰度，忽略了原本照射到左側(cè)測(cè)量

單元腔鏡外的光束。

EP增強(qiáng)型版本集成了壓力傳感器和內(nèi)部溫度控制器，具有超穩(wěn)定性測(cè)量腔室，防止溫度漂

移、壓力變化等造成的誤差。

CEAS(腔增強(qiáng)吸收光譜)相比于第一代的 CRDS(腔蕩光譜)術(shù)，有許多已被證明的優(yōu)勢(shì)。簡(jiǎn)而言之，激光束不需要 共振耦合進(jìn)入測(cè)量腔室(例如光束不需要嚴(yán)格對(duì)準(zhǔn))。DUKE分析儀器和系統(tǒng)具有天生安裝簡(jiǎn)單、機(jī)械牢固、防護(hù)結(jié)實(shí)等特點(diǎn)。